技术编号:5811701
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种半导体单晶硅制程设备,具体涉及到一种具有保温洁净和节 能效果的氮气柜。背景技术在单晶硅的制程中,硅片在经过抛光清洗之后必须要经过干燥处理,才能进入下 一个制程。现有技术对硅片的干燥主要是通过充氮配合甩干机来实现,但是此种方式主要存 在以下的缺点第一,普通的甩干机一次只能放置两盒硅片,因此以来甩干机的方式极大程度上 限制了生产的数量,影响生产效率;第二,甩干机的洁净度较低,导致影响产品质量,无法满足TDH反颗粒现象测试;第三,甩干机在高速甩...
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