技术编号：5815767
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 本发明涉及用于向半导体制造装置的处理腔室等气体使用对象供给作为处理气体的由多种气体构成的混合气体的混合气体的供给方法和混合气体的供给装置。 背景技术 一直以来，在将由多种气体构成的混合气体作为处理气体供给到半导体制造装置的处理腔室等气体使用对象的情况下，例如，在将蚀刻气体供给到等离子体蚀刻装置的处理腔室的情况下，一般使用被称为气体箱(GAS BOX)的混合气体供给装置。 上述混合气体供给装置的结构为，经由连接在一根共同配管(总管，manifold)的...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。