技术编号：5821591
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及到光学分子影像成像模态-自发荧光断层成像(BLT)技 术，特别涉及到。背景技术作为一种分子影像成像模态，自发荧光成像技术己经得到了迅速发 展和广泛的应用。可是由于当前技术只能得到二维的平面图像，使当前 研究人员不能三维的观测所感兴趣目标的变化，而这需要自发荧光断层 成像(BLT)系统的发展来实现，由于自发荧光断层成像本身所具有的不适 定特点，使确定自发光光源的位置重建在一般情况下没有唯一解，只有 融入丰富的先验信息，才能够唯一定量的确定光源的信息...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。