技术编号：5841260
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于评估在退火非晶硅时形成的多晶硅薄膜状态的装置。背景技术 最近，采用多晶硅薄膜作为其沟道层的薄膜晶体管被投入使用。这种采用多晶硅薄膜的薄膜晶体管大大改进电场的迁移率，使得例如液晶显示设备这样采用薄膜晶体管作为驱动电路设备的电子设备可以大大改进分辨率、工作速度和小型化。另一方面，所谓低温多晶化工艺的不断发展，其中利用受激准分子激光退火设备对非晶硅进行热处理以形成多晶硅薄膜。通过采用这种低温多晶化工艺作为薄膜晶体管的制造工艺，可以降低对玻璃基片的热...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。