技术编号：5862316
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及光罩制作工艺，尤其涉及一种在生产过程中对不规则形状光罩进行检测的装置。背景技术光罩是含有铬等金属薄膜的基板(Blanks)上，形成复杂Geometry (任何图形)的Mask,例如在半导体的曝光制程中，利用光罩以及曝光能够在硅基板上形成电路Patten。现在，随着LCD的大型化和高效能化，光罩也随着提高精细化和不断的大型化，对于线宽必须达到数微米的高度精确的要求。光罩制程简单来说，是在基板(Blanks)上涂上光阻材料，利用雷射电子束设备描绘...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。