技术编号:5870461
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 本发明涉及一种具有测量精度标定功能的光刻机投影物镜波像差在线检测装置,属于光学检测领域。 背景技术 大规模集成电路的制备过程中使用投影曝光装置,将掩模上的图案经过投影物镜缩小投影在涂有光刻胶的硅片上。2007年国际半导体技术路线图(ITRS2007)指出,极紫外光刻技术(EUVL)是实现32nm及其以下技术节点最有潜力的候选技术。 相关专利1(US5835217)中提出了一种安装在EUVL光刻机上利用曝光波长在线检测投影物镜波像差的相移点衍射干涉仪(...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。