技术编号:5895215
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种测量分析技术,特别是涉及一种镀膜玻璃的空间磁场测量系 统。背景技术镀膜玻璃的膜厚均勻性是镀膜玻璃的非常重要的一个性能指标,它会直接影响到 产品的外观质量和使用效果。国家标准要求低辐射玻璃光学性能允许最大偏差为1.5% (明示标称值)或小于3.0% (未明示标称值),当均勻性超过一定范围时,肉眼即可从玻璃 面感觉到色差。当前的建筑幕墙玻璃都采用大面积镀膜玻璃,在磁控溅射中,约束金属离子 溅射区域磁场的均勻性直接影响着所镀膜层的均勻性,因此保...
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