技术编号：5926700
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及匹配的电阻结构。尤其，本发明涉及用于蚀刻互连层的缝合掩膜(stitched mask)的单向未对准的测量。在现有技术中，测量缝合偏移的技术通常采用光学装置探测缝合的变化。例如，Wang等的美国专利4,431,923公开了一种用于使选择部件与聚焦的辐射束精确对准或用于使两个选择部件互相对准的工艺。首先在各个部件表面上提供具有预定空间图案的一组对准掩膜。接着，从该组对准掩膜产生探测信号，包括作为时间函数的系列电子信号并含有对应于一组对准掩膜中的各个掩...
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