技术编号：5928557
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及固体样品的表征(characterizatoin)，例如，薄膜。更特别的，本发明适用于使用非破坏性的技术来表征这样的样品。背景技术 样品的描述或分析(例如，薄膜的厚度，在基底上形成的薄膜中元素和/或化学物质的浓度)在许多不同类型设备(例如，电子和光电子设备)的生产中是必须的。例如，确定在已知的半导体集成电路设备诸如处理设备和存储设备上形成的薄电介质膜(例如，栅极氧化膜(gate oxide films)，氮化钽膜等)的成分可能是必须的。增加集成电...
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