技术编号:5939982
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于确定光学系统中,尤其是微光刻投射曝光设备中的反射镜的发热状况的方法和布置。背景技术微光刻技术用于制造微结构化的组件,例如集成电路或IXD。在具有照明系统和投射物镜的所谓投射曝光设备中实现微光刻工艺。在该情况下,利用投射物镜,将利用照明系统照明的掩模(=掩模母版(reticle))的像投射至涂布有光敏层(光刻胶(photoresist))且布置在投射物镜的像平面中的基底(例如硅晶片)上,以将掩模结构转印至基底上的光敏涂层上。由于缺少合适的透明折...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。