技术编号:5945295
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及包括光筒、用于移动诸如晶片的目标的可移动目标载体、和差分干涉仪的光刻系统,其中,干涉仪适用于测量在光筒上放置的反射镜和在目标载体上放置的反射镜之间的位移。本发明还涉及干涉仪模块和用于测量这种位移的方法。背景技术基于干涉仪的测量系统的一个典型问题是,例如由于反射镜不平和/或由于目标载体或光筒的热膨胀,反射镜的反射表面上的小误差导致由于阿贝和余弦误差的位移测量误差。位移误差对例如图案的缝合或覆盖所需的对准精度带来负面影响。光筒的Rz旋转中的误差尤其是...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。