技术编号:5947403
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体集成电路的制造领域,尤其涉及。背景技术对于半导体工厂,在新的特气设备正式投入使用前必须进行充分的管道吹扫工艺,如果管道吹扫不干净,则会对特气供应的纯度造成一定的影响。目前,业界一般采用高纯N2对特气管路和设备进行吹扫,在对包括气柜、区域分配箱(VDB)、阀门分歧箱(VMB)等设备进行吹扫后,使用分析仪器测试所有VMB出口的数据,以检测吹扫的效果是否达到工艺需求。由于测试的VMB数量较多(一般8英寸半导体工厂的VMB数量会达到几十台甚至上百台...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。