技术编号：5948798
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于监视连接到压力腔室的用于向所述腔室供气的质量流控制器(MFC)的方法。背景技术质量流控制器用于向压力腔室提供测量的气流，用于一系列过程，包括蚀刻半导体基底和在其上沉积薄膜。精确的流速在过程的再现性中可能极为重要，同样，流速的不精确可能导致由于腔室内化学品的比例改变而执行不同的过程。因此，已经开发了用于监视质量流控制器以识别其运行中的问题的系统。典型情 况下，这包括在MFC安排所期望的流速、让气流稳定、让固定容积的腔室某固定时间内或直到达到...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。