技术编号:5953500
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种检定半导体制造装置中的工艺气体等的气体供给系统中使用的流量控制仪器(质量流量控制器等)的流量的气体流量检定系统及气体流量检定单元。背景技术在半导体制造工艺中的成膜装置、干式蚀刻装置等中,使用例如硅烷等特殊气体、氯气等腐蚀性气体、及氢气、磷化氢(phosphine)等可燃性气体等。这些气体流量直接影响产品的优良与否,因此,必须严格管理该流量。特别是,伴随着近年的半导体基板的层叠化、微细化,对提高工艺气体供给系统的可靠性的要求比以前更高。 因此,...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。