技术编号：5956005
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于接近接触式光刻，特别涉及。背景技术当前，纳米科技快速发展并已经成为本世纪备受关注的前沿领域，而纳米器件的制造作为纳米技术的基础，离不开高分辨力的光刻技术；另外，光学光刻一直作为大规模集成电路工业制造技术的基础，随着高集成度电路以及相关器件的研发，IC特征尺寸愈来愈小，不断地促进光刻分辨力的提高。套刻精度对光刻分辨力有着重要影响。套刻精度的提高是凭借高精度的对准系统来实现的。通常而言，套刻误差只允许为特征尺寸的1/10左右。而套刻误差的主要因素来源...
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