技术编号：5963332
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及硅片样品光学测量，特别涉及一种在半导体行业中，用于测量硅片样品反射的光信号的硅片装载装置。背景技术精确地测量硅片样品上单层或者多层薄膜形成的三维结构的临界尺度、空间形貌及材料特性等表面信息在半导体行业中具有十分重要的作用。通常情况下，利用光学测量技术，通过测量硅片样品反射的光信号获得硅片样品表面信息。现有技术中，用于测量硅片样品表面信息的光学测量设备在使用过程中，硅片样品是通过机械手装载到硅片样品台的吸盘上的。附图1所示为现有技术中的吸盘的示意图...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。