技术编号:5964922
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种薄膜厚度的测量装置及测量方法,具体涉及。背景技术椭圆偏振测量法是利用偏振光测量薄膜或界面参数的测量技术,通过测量经被测样品反射(或透射)光线的偏振态变化来获得样品的厚度和折射率等参数。椭偏仪广泛应用于薄膜厚度和光学常数的测定,能同时测量多层薄膜,膜厚测量范围大,可以从几纳米到 I微米。椭偏仪是一种快速、高精度、非接触式光学测量仪器,能够在各种复杂环境下应用, 可以对各种半导体及其氧化物成分、化合物半导体成分的梯度膜层和透明薄膜的折射率和厚度以...
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