技术编号:6000029
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及诸如晶片的半导体基板的制造,更具体而言,涉及用于监视在使用用于高数值孔径光刻扫描装置的特别设计的偏振监视调制盘(reticle)进行投影印刷时入射在光掩模上的偏振的状态的方法。背景技术公知在典型的光刻工艺中,在晶片上的半导体层之上沉积光敏材料或光致抗蚀剂的薄层。每个晶片典型地被用于制造许多芯片。在光刻工艺期间,通过透镜系统和光刻掩模或调制盘将诸如紫外光的光照照射到半导体晶片上的芯片区域。调制盘具有特定需要的器件或电路图形,并且通过该光照在芯片区域...
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