技术编号:6002291
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明关于光学系统以及用于确定光学系统的组件的相对位置的方法,尤其是微光刻投射曝光设备中的光学系统。 背景技术微光刻用于制造微结构组件,例如集成电路或液晶显示器(IXD)。在具有照明系统及投射物镜的所谓的投射曝光设备中实施微光刻工艺。在这种情况下,由照明系统照射的掩模(=掩模母版)的图像由投射物镜投射到基板(例如硅晶片),基板涂有感光层(光刻胶)并布置在投射物镜的像平面,以转移掩模结构到基板上的感光涂层。在针对EUV范围(亦即波长为例如约13nm或约7nm...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。