技术编号:6015383
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及投影光刻系统中的检焦技术,是一种基于光学三角测量原理,利用编码光栅,实现对基片高度变化量进行大范围测量的技术。背景技术投影光刻机是大规模集成电路生产的重要设备之一。投影光刻机中的投影物镜作为核心部件,其主要功能是将掩模板上的图形按一定比例成像到要加工的对象上。由于投影物镜焦深有限,为保证曝光质量,在曝光过程中需要使加工对象的相应表面始终位于物镜焦深范围之内。为此,投影光刻机采用了检焦系统对加工对象的表面高度变化量进行测量,并以此为依据对工件台进行...
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