技术编号：6037521
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光学薄膜材料参数的测量，特别是指一种用于光学薄膜等效折射率及物理厚度的测量设备和方法。本发明是根据入射光在空气-薄膜-衬底的界面处两次反射，由于两束反射光之间存在光程差，会发生干涉，其干涉现象会从反射谱上表现出来。当入射光以不同角度入射到光学薄膜后，其光程差是不同的，从而引起干涉的变化，如附图说明图1所示。因此只要测得两个不同入射角θ1和θ2含有干涉信息的反射谱R(θ1，ω)和R(θ2，ω)，采用薄膜反射率公式同时拟合这两个反射谱，得到相应的光程...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。