技术编号:6080374
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。相关申请本申请要求2003年2月21日申请的美国临时申请公开No.60/449,284的优先权。将上述申请的整个教导加入本文作为参考。 背景技术 在各种化学、医药和生产过程,特别是在微电子中,例如平版印刷,晶体取向生长和薄膜加工中,对高纯度气体和液体的需求越来越大。当今高纯度气体和液体使用者面临的一个挑战是对其工作气体中污染物的测定。少量存在的污染物,例如万亿分之几(ppt)的浓度也可以不利地影响这些过程,尤其是在长期的暴露的情况下。污染物可能以脉冲或随机...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。