技术编号:6092785
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于在低氧浓度的加工环境中检测有机污染物的传感器,例如在半导体制造工业中使用的那些传感器,这种传感器的用途,以及在这种加工环境中检测有机污染物的一种新方法。术语“低氧浓度的加工环境”应离解成指一种加工环境,其中氧气的分压在10-6mbar到10-3mbar的数量级(十亿分之几或者百万分之几的数量级)。例如,在半导体制造工业中,控制其中生产晶片的气氛(加工环境)十分重要。人们希望在受控制的环境中制造晶片,因为不希望存在的或者变化水平的有机污染物...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。