技术编号:6095815
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及装置和方法,用于在低浓度范围和高浓度范围,检测流动的气流中杂质的标定的浓度,高的杂质浓度显露以后,系统能快速恢复到常规运行。汽相处理技术的快速发展,例如化学蒸法镀敷,在半导体工业中已经和制造设备的配置和使用联系起来,在半导体制造厂的使用处所,这种设备完全依赖于超高净化的工艺过程气体的供应。目前,在使用着的这种设备价格超过50亿美元。尽管这种汽相处理技术有广泛的工业应用,但至今,很少有努力集中到工艺过程系统中的气流洁净度的监测系统的发展。由于缺乏适...
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