技术编号：6099681
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种检测光掩膜缺陷的方法，该方法提供一方式予检测者确认一实体的光掩膜缺陷位于一晶圆的实体的芯片阵列(或位于一光电基板的实体的单元阵列)上的实际位置，以及更进一步确认该实体的光掩膜缺陷位于转移在该芯片阵列(或该单元阵列)的一实体的光掩膜设计图案上的实际位置。背景技术 于先前技术中，光掩膜设计者在制造光掩膜时，通常会依据半导体业或光电业中的IC(集成电路)/薄膜晶体管(TFT)/液晶显示器(LCD)/彩色滤光片(CF)/印刷电路板(PCB)设计者或客...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。