技术编号：6125893
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种，特别涉及在半导体元件、液晶显示元件等微型器件制造工艺中的光刻机。背景技术 近年来，在半导体光刻领域，投影光刻技术的不断进步，线条向更精细方向推进，目前芯片关键尺寸已能达到90nm～65nm的光刻分辨能力。光刻系统中的光学投影物镜的成像质量是影响光刻分辨力的关键因素。投影物镜在设计时可以达到很高的质量，但在光学加工、装调和运输的过程中都会影响物镜的光学质量，这就需要有离线的光学检测方法来保证物镜在工作现场工作时有较好的成像质量；另外即使在工作...
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