技术编号：6128793
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及紫外线监测系统及紫外线照射装置。 背景技术历来，已知有紫外线照射装置，具有氙准分子灯或低压水银灯等紫外 线源，并通过从这些紫外线源向照射对象照射紫外线而进行规定的处理。 这种紫外线照射装置，例如被用于平板显示器和半导体等的干式清洗、薄 膜和树脂等的表面改质或其它各种用途。另外，在这样的紫外线照射装置 中，设有对紫外线源照射的紫外线强度进行监测的紫外线监测系统。该紫 外线监测系统构成为具有由荧光玻璃传感器或硅光电二极管等构成的紫 外线传感器，使用该...
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