技术编号:6130829
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及检查晶片等基板的周缘部的外观的装置。本申请要求2006年9月29日提交的在先日本专利申请第2006 — 268479号的优先权,并在此援引其内容。背景技术在半导体的制造工厂等中,在半导体晶片的周缘部有时产生作为缺 陷的伤痕和裂纹。如果对这种缺陷放置不管,则将成为在制造工序的中 途导致晶片破损的原因。并且,如果晶片开裂,则产生制造装置必须长 时间停止等损失。因此,近年来在制造工厂中正在采取检查晶片的周缘 部、査看在工艺中途产生的伤痕等缺陷,并根据需...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。