技术编号：6131748
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。这一发明涉及表面检查系统和方法，尤其特别涉及对物品或工件的检查，如硅晶片，以探测物品表面的微粒、裂纹或缺陷。在制造如硅或其它半导体微晶片这样的物品或工件的过程中，光往往被导向通过一个光栅掩蔽盘射向硅晶片来蚀刻电路。光栅掩蔽盘或硅晶片表面上存在的裂缝、缺陷、污物、灰尘、斑点或其它外来物质都是非常不希望有的，并且对最终电路有不利影响。因此，光栅和硅片必须在使用前受到检查。一种检查技术是由检查人员靠视觉在强光下并经过放大后来检查每一表面。那些小于能被人眼靠视觉检...
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