技术编号:6136042
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种制造LSI(大规模集成电路)的处理设备,预定气体引入其处理室对衬底进行预定处理。特别是,本发明涉及一种处理设备,该设备通过处理室的一个窗口从处理室外引入激光,以便观察严重影响预定处理的细颗粒的发生情况,可以测量到悬浮于处理室中的细颗粒散射的光。当通过处理室的窗口引入激光,并测量处理室中细颗粒所散射(如灰尘或污物)的光时,由于各种原因发生杂散光而不是要测量的散射光。杂散光包括激光在窗口的正面和背面上的反射光;设备内壁上的不规则反射光;激光挡板上...
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