技术编号：6136468
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种利用常压离子化质谱来分析气体组分，特别是超高纯气体中痕量组分的方法及系统。半导体工业需使用一些超高纯度(UHP)的气体。这种要求起因于要减少半导体器件行距尺寸的需求。当半导体器件上线距变得越来越小时，杂质量必须维持在十亿分之几(ppb)，甚至万亿分之几(ppt)的范围内，以确保器件的效能。供应纯度低于1ppb的超高纯气体的需求激励工业部门研制新的分析技术来测定气体杂质。常压离子化质谱(APIMS)是测定气体中痕量杂质达ppb和低于ppb级的已...
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