技术编号:6139529
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。此项发明是关于测量设备和方法的,尤其是测量半导体器件中亚1/4微米尺寸的测量设备和方法。这类尺寸称为临界尺寸(cd)。在半导体器件的制作中,小于1微米的临界尺寸通常是用精密控制的扫描电镜来测量的。尽管扫描电镜是一种有用的测量手段,但它也有一些缺点。缺点之一就是会使待测样品带电而可能引入污染。扫描电镜(SEM)主要用于在或接近固体(如半导体芯片)表面成像。借助电子束在样品表面上扫描,可使探头对样品的位置与电子束在成像装置,如示波器上的位置建立起一一对应的关系...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。