技术编号:6140827
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种多探头的簿膜厚度测控装置。薄膜厚度是薄膜研究和工业应用中的一个重要参数。薄膜的电阻率、电阻温度系数、磁阻、霍尔系数、热电系数、光学反射率、趋肤效应等参数均与薄膜厚度有密切的关系,测量这些参数必须知道薄膜的厚度。而且,人们在设计具有一定功能的薄膜时,对其厚度往往有比较严格的要求,这就需要在薄膜沉积过程中对膜厚进行实时的监控。在真空系统中薄膜沉积时对膜厚进行实时监测的方法常用的主要有石英晶体振荡法、光学法、反射高能电子衍射法等。其中,石英晶体...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。