技术编号:6144007
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种探测液体泄漏的装置,特别是一种在半导体制程中探测化学溶剂泄漏的装置。背景技术 在半导体制程中,多数集成电路(Integrated Circuits,ICs)是利用沉积以及蚀刻制程形成在一硅晶圆上。举例来说,步进机(stepper)是用以在各种不同制程步骤中,将光学掩模上线路布局的设计,以紫外光对光阻曝光的方式,转换到已覆盖有光阻层以及材料层的硅基板上,再利用蚀刻技术将光阻层下方不必要的薄膜材料层去除,以保留电路布局设计。其中,光学掩模或是光阻...
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