技术编号:6145068
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种在半导体元件、液晶显示元件等的制造过程中检测形成于被检测基板的表面的图案的。背景技术以往,对利用从形成于半导体晶圆、液晶玻璃基板等被检测基板的表面的图案产 生的反射光来检查基板表面的不均或损伤等的缺陷的装置进行了各种提案(例如参照专 利文献1)。尤其是,近年来随着半导体工艺的微细化,被检测基板的缺陷管理也要求更高的 精度。例如,在通过SEM进行被检测基板的图案宽度的测定时,虽然测定精度高,但观察 倍率高并对多点采样进行测定,因此测定需要很多时...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。