技术编号：6146184
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于透射电镜横截面样品的制备领域，具体的说是一种制备变形小、 损伤和缺陷少、污染少的横截面透射电镜样品的方法，特别适用于经严重塑性 变形后在表层存在较高残余应力的样品的横截面透射电镜样品制备，也同样适 用于表面涂层、镀层等有关界面研究的横截面电镜样品的制备。 背景技术1999年卢柯和吕坚提出了 "表面纳米化"这一新概念，其中表面自身纳米 化主要是通过在材料表面进行反复的严重塑性变形使晶粒细化，从而在材料的 表面制备纟内米表层(K. Lu and J....
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