技术编号:6148699
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于半导体制造工艺设备,具体涉及一种关键尺寸扫描 电子显微镜(Cri t ical Dimens ion Scanning Electronic Microscope, CDSEM) 才几台的爭之准方法。背景技术随着半导体制造技术的发展,关键尺寸(Critical Dimension, CD )越 来越小。为保证光刻尺寸的准确性,晶圆在黄光区经过曝光显影以后,带有 光刻胶图形的晶圆会在CDSEM机台上测量CD尺寸,然后确认尺寸差值,从 而了解光刻曝光...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。