技术编号：6164049
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供了。所述方法包括将硅片清洗、并在硅片上涂覆电子束抗蚀剂、烘烤；对烘烤后的样品进行电子束曝光、显影、定影、干燥得到抗蚀剂图形；将具有抗蚀剂图形的样品镀膜；将镀膜后样品利用丙酮进行剥离，最终得到扫描电镜测长用长度标准样品。本发明制备的长度标准样品为硅衬底上的金属栅格，由于两种材料之间的差异，从而大大提高了标准样品在扫描电镜中的成像对比度，提高了样品的测量精度。专利说明—种扫描电镜测长用长度标准样品的制备方法[0001]本发明涉及纳米图形的加工，尤其涉...
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