技术编号:6166995
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种暗场半导体晶圆检查装置,按以下顺序包括光源、集中器(7)、平行的第一和第二狭缝(13、14)和光电倍增管,光源用于沿着第一轴向晶圆发射入射光束,集中器(7)相对于通过第一和第二轴的平面对称并且设置有沿着垂直于轴(该轴垂直于第一轴)的平面的椭圆形切割并且具有平行于第一轴的母线的反射镜,平行的第一和第二狭缝(13、14)分别侧面地设置在用于集中通过晶圆散射和通过集中器的第二和第一部分反射的光的点处的集中器的第一和第二部分(9,10)中,光电倍增管...
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