技术编号：6179911
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种，包括以下步骤提供微尺度试件；对试件进行表面处理；将试件置于聚焦双束系统下，聚焦双束系统采用电子束在试件表面进行微区定位；以及聚焦双束系统采用离子束在微区进行沉积点阵结构以形成光栅。该方法可以用于微纳米薄膜表面制备变形传感元件-高密度云纹光栅结构的制备，对薄膜表面的损伤小，可以制备不同频率适用于不同测量范围的光栅点阵结构，可以对试样表面的微区域进行实时定位加工，还可适用于不同基底材料表面的微区光栅制备。该方法具有通用性好，损伤小的优点。专利...
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