技术编号：6184955
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了，其方法如下a磷化膜断口的制备a.1制备磷化试样；a.2在距圆柱形试样一侧端面横向5～10mm位置处，沿平行于该端面用线切割取样，取样深度10mm左右；a.3制作试样的预制缺口，a.4沿预制缺口砸制断口；b磷化膜断口的扫描观察用酒精清洗、吹干试样后放入扫描电子显微镜的观察室内，抽真空达到高真空后，调整参数，直至磷化膜层截面图像清晰。本专利适用于外观结晶致密、连续均匀的磷化膜深度的测量，本发明通过在扫描电镜高倍观察磷化膜截面断口形貌，可准确对磷化...
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