技术编号:6190539
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了,属于缺陷腐蚀检测,主要技术方案包括以下步骤将样品待测面处理到预定的表面光洁度;对样品的观测点进行确定并标识;对样品除观测点以外的表面进行涂覆;将涂覆好的样品进行抛光;将抛光好的样品进行清洗;对样品除观测点以外的表面补充涂覆;将涂覆好的样品进行腐蚀;将腐蚀好的样品进行清洗;对样品观测点进行位错测量,并计算出样品的位错密度。采用本方法对晶体进行位错检测,实现了位错测试中温度的有效控制,腐蚀效果好,同时腐蚀液使用量和晶体的腐蚀量大大降低。专利说明[...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。