技术编号:6213972
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供了一种在沉积期间确定薄膜的厚度的方法。设置目标膜厚度。将基片放置在沉积系统内。在沉积系统内将薄膜沉积到基片上。在薄膜的沉积期间使用标准OEI技术监测在多个波长下从基片反射的辐射。监测从所反射的辐射得出的值。检测得出的值处于目标值的时间。计算在检测到的时间的膜厚度以生成数据。对生成的数据执行数学分析以确定沉积的膜厚度相对于时间的方程。所计算出的沉积的膜厚度相对于时间的方程被用于达到目标膜厚度。专利说明 [0001]本发明涉及一种用于测量薄膜的...
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