技术编号:6220399
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种光学薄膜参数的测量方法,尤其是指高反射率膜片膜 内损耗参数(包括散射和吸收损耗)的绝对测量方法。背景技术高反射率膜片(以下简称高反膜),特别是具有极低散射和吸收损耗 的多层介质规整高反膜,作为不可或缺的光学元件已被广泛应用于诸多高科技领域,譬如 众多的激光器、高品质干涉仪、还有激光陀螺等等。表征高反膜特征的参数有很多,如光谱 特征和薄膜损耗等等。其中,薄膜损耗(包括透射、散射和吸收损耗)作为重要的特征参数, 决定着众多光学器件、光学仪器和光学...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。