技术编号：6243302
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种，它包括两点线性非均匀校正和基于目标、环境的二元非线性非均匀校正；其中两点线性非均匀校正包括以下子步骤使焦平面通过光学系统与平面黑体源对准；计算每一探测元在高、低温下的响应平均值及所有探测元的响应平均值；计算每一探测元的校正增益和偏移量，分别存储在查找表内，以供校正时取用；根据查找表(LUT)内的增益和偏移量系数，对红外图像进行校正。本发明可以比较全面的描述焦平面探测器的响应特性，并且充分考虑资源开销、功耗和应用场合对精度的不同需求，能够有...
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