技术编号：6247271
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开，制作新的测量曲面；二，测量偏差的比对分析；所述制作新的测量曲面的具体步骤为步骤一按照设计图纸提供的理论点制作每个截面二维图形；步骤二利用多个二维截面图形生成三维叶身型面；步骤三取得每个截面封闭测量点；步骤四将每个截面的测量点沿法向偏置一个探针半径，取得一个新的测量点的坐标；步骤五利用新的测量点生成一个新的截面曲线；步骤六将所有根据新的测量点生成的截面进行连接，生成一个新的测量曲面；本发明的有益效果可以将叶身型面的余弦测量误差控制在0.005以内...
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