技术编号：6278120
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种对意图在微电子工业中使用的超纯化学品进行稀释的系统。更具体说是涉及超纯浓缩化学品的稀释，以获得它们在半导体制造的不同步骤过程中使用时所需的纯度。在集成电路制造过程中，对开发半导体制作方法的人们来说通常非常关注的是污染问题。在现代半导体制造过程中，许多步骤由各种清洗步骤构成。这些清洗步骤可能在于去除有机污染物、金属污染物、蚀刻过程中使用的光刻胶，或来自这些产物的无机残余物、电路蚀刻残余物、初生氧化物，例如SiO2型等。目前，建造并开始使用一个半...
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