技术编号：6281074
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种设施，在这种设施中实现一种需要控制一个腔室内气体环境的作业，特别是还涉及一种处理一个行进的基质表面，特别是一个聚合物薄膜的设施，更确切地说是为了使用一种方法，根据这种方法，使基质在一种除空气以外的气体混合物中经受除电荷。背景技术 特别是人们知道，可以通过在薄膜表面沉积少量氧化硅来改进薄膜，特别是聚烯烃薄膜的性质(表面能量、附着特性……)。为此，根据这些已知的方法，把聚合物材料的基质(薄膜)在一个大于10kPa的压力的介电屏障下经受除电荷，同时...
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