技术编号:6282288
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及控制对产品基板实施规定处理的基板处理装置的控制装置、控制方法及存储有其控制程序的记录介质。特别是涉及判定为了调整处理容器内的状态是否实施模拟处理的控制装置、控制方法及存储有其控制程序的记录介质。背景技术 一般地,在基板处理装置中,基于预先确定的方案中所定义的顺序进行CVD(化学气相沉积)处理、蚀刻处理、灰化处理等基板处理。其中,在CVD处理中,在多个基板上形成膜时,膜也会慢慢地沉积在处理容器的内壁上。而且,在蚀刻处理中,在去除形成在基板上的膜时,...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。