技术编号：6283334
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种流体分流和供应单元以及一种分流控制程序，用 于分配和供应诸如气体和化学液体的流体。背景技术例如，用在半导体制造工艺中的化学气相沉积(CVD)装置和掺 杂装置是以这样的方式操作的，S卩，将多个晶片布置在处理室内，将 该处理室排空以形成真空，然后将气体引入到该处理室内以在该处理 室内的每个晶片上形成薄膜或者将杂质电离以便于将这种电离杂质引 入到每个晶片。为了稳定每个晶片的品质，使所述处理室内的气体浓 度均匀是必要的。但是，在最近的半导体商业领域中...
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